新興NVM技術(shù)（MRAM、PCM和RRAM）在用于物聯(lián)網(wǎng)、可穿戴設(shè)備和邊緣AI設(shè)備的微控制器(MCU)和低功耗SoC/ASIC中的嵌入式代碼/數(shù)據(jù)存儲方面繼續(xù)獲得動力。小于28nm幾何尺寸缺乏具有成本競爭力的eFlash解決方案是推動頂級代工廠和IDM積極投資在≤28nm的節(jié)點(diǎn)上集成嵌入NVM技術(shù)的主要原因。
 
    嵌入式新興NVM晶圓產(chǎn)量具有蓬勃發(fā)展的潛力，從2023年的約3KWPM增長到2029年的約110KWPM(CAGR23-29~80%)。就收入而言，我們估計嵌入式市場到2029年可能達(dá)到約26億美元，其中三種主要的eNVM技術(shù)具有類似的增長潛力。
 
    增長最快的細(xì)分市場是用于MCU的嵌入式NVM，預(yù)計到2029年將占嵌入式新興NVM收入的80%以上。采用新興eNVM的MCU晶圓數(shù)量將非常迅速增長，從2023年的不足1KWPM2029年達(dá)到47KWPM(CAGR23-29~124%)。

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